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电镀

(Electroting)就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程,是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化(如锈蚀),提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性(硫酸铜等)及增进美观等作用。不少的外层亦为电镀。

蚀刻

通常所指蚀刻也称光化学蚀刻,指通过曝光制版、显***,pvd真空镀膜工艺参数,将要蚀刻区域的保护膜去除,在蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。

工艺流程:

曝光法:工程根据图形开出备料尺寸-材料准备-材料清洗-烘干→贴膜或涂布→烘干→曝光→显影→烘干-蚀刻→脱膜→OK

网印法:开料→清洗板材(不锈钢其它金属材料)→丝网印→蚀刻→脱膜→OK






金百辰智能科技(浙江)有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。

pvd真空镀膜与您分享在过去几年中,越来越多的用户要求镀膜系统制造厂家提供的小规格、简便型光学镀膜系统,同时,pvd真空镀膜公司,用户对性能的要求不仅没有降低,pvd真空镀膜厂商,反而有所提高,特别是在薄膜密度和***吸水后光谱变化化等方面。

现在,系统的平均尺寸规格已经在降低,而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。因此,东阳pvd真空镀膜,选用现代化光学镀膜系统的关键取决于对以下因素的认真考虑:对镀膜产品的预期性能,基片的尺寸大小和物理特性以及***高度一致性工艺所必需的所有技术因素。





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pvd真空镀膜与您分享被PVD涂层工件材料要求:

1.除特殊涂层外,涂层材料必须是导电的;

可以涂层材料包括:高合金工具钢、高速钢、不锈钢、硬质合金、钛合金等;

2.由于涂层生成温度在380-500℃,因此涂层工件的材料要能够承受500℃的温度而不发生性能变化(如挥发、变形、变软等),一般需要热处理3次高温回火处理;特殊低温(260-380℃)涂层工艺可降低涂层温度,具体可视工件的回火温度以及性能要求而定;

3.工件能够在涂层前进行退磁处理。





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